版畫風采全球並茂 國美館推出中華民國第十九屆國際版畫雙年展

      【記者連凱斐/綜合報導】「中華民國第十九屆國際版畫雙年展」將於2020年7月4日起於國美館登場，此次徵件競賽期間適逢全球新冠肺炎疫情大流行，以致原先邀請之國際評審及國際頒獎典禮得獎嘉賓無法來台，但各地參賽者仍以最大的創作熱情突破各地隔離的困境，以雙年展藝術交流的平台參與國際版畫的創作切磋與分享。本屆在80個國家共1220位藝術家報名參賽的競爭下，選出金銀銅獎、評審團特別獎、優選及佳作共15名，這些精采的得獎作品以及149件入選作品將於7月盛夏時節在國美館102-202展覽室展出。
       「中華民國國際版畫雙年展」於1983年開辦，是臺灣第一個以雙年展形式創設的開放型競賽展覽，也是國際歷史悠久的競賽型版畫雙年展之一，國美館辦理此雙年展的宗旨在於透過國際徵件競賽與展出建立版畫藝術的交流平臺，網羅世界各地優秀及具創意發揮的版畫作品，豐富版畫藝術的多元發展並促進版畫藝術的創作風氣。在多達80國的千餘名參賽藝術家當中，除了亞洲國家之外，亦有來自歐洲、中南美洲國家的藝術家，呈現全球版畫藝術多元蓬勃的生命力。金牌獎是來自日本的藝術家小花春夫，銀牌獎是來自波蘭的藝術家Henryk KROLIKOWSKI，獲得銅牌獎的藝術家李迪權來自馬來西亞，獲得評審團特別獎的藝術家，分別為來自日本的玉分昭光，以及來自泰國的Chisanuphol PRESANVORAKITKOOL。其他優秀的得獎藝術家，分別為：獲得優選獎的Orlando MARTINEZ VESGA（哥倫比亞）、Amnat KONGWAREE（泰國）、金炫辰（臺灣）、王亭喧（臺灣）、Jintu Mohan KALITA（印度）；獲得佳作的Rafael GIL（阿根廷）、Dimitrije PECIĆ（塞爾維亞）、戴飴霏（臺灣）、Warisara APISAMPINWONG（泰國）、今泉奏（日本）。15位的得獎者中除了中堅輩及資深藝術家的參與，更有不少年輕創作者加入，來自世界各地的創作樣貌也呈現出不同文化脈絡下版畫藝術的豐富多元風貌。
       綜觀本屆展出作品，創作者以自身生活經驗與其養成的文化底蘊詮釋各種議題，亦以積極態度回應當下社會現象和所處環境，諸如對自然生態環境、社會脈動的反思與關懷，個人精神世界的表達及探索，對時空或本質問題的省思及叩問，融合形象式語彙的感悟與傳達，不僅開拓本展的深度與廣度，藝術家們利用版畫創作所銘刻下的時代記憶與心靈圖像，更顯深刻而備具意義。
      另一方面，配合「中華民國第十九屆國際版畫雙年展」，國美館今年也策辦「版印潮」主題展，將透過國美臺灣版畫、版雙歷屆精選、世界名家版畫，帶領觀眾感受社會脈動、美學潮流，探觸科技新界，加深民眾對版畫藝術的認識與瞭解。
       國美館林志明館長表示，本屆雙年展的推動，感謝本屆委員的辛勞付出，參賽者們對本展一如既往的支持與響應。目前全球疫情仍處於非常時期，國境仍未全面開放，為了讓此國際展能夠突破藩籬讓全球觀眾一睹全貌，本館將特別規劃線上頒獎影片、360VR線上藝廊及線上座談會等活動，以科技突破疫情困境搭建線上交流平台，期待未來此國際競賽展能持續開闊與深化並共同豐富版畫創作的多元樣貌。
       中華民國第十九屆國際版畫雙年展,展覽時間:2020年7月4日至9月27日,於國立臺灣美術館102、202展覽室展出。
       國立臺灣美術館（http://www.ntmofa.gov.tw、
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